1.氧化物：一氧化硅SiO，二氧化硅SiO2，二氧化钛TiO2，二氧化锆ZrO2，二氧化铪HfO2，一氧化钛TiO，五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5，氧化钇Y2O3等高纯氧化物镀膜材料。
 

2.氟化物：氟化钕NbF3，氟化钡BaF2，氟化铈CeF3，氟化镁MgF2，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。
 

3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫化镉CDS等真空镀膜材料。
 

4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银AG，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂PT，高纯锗Ge，高纯镍Ni，高纯金Au，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟镓合金CuInGa，铜铟镓硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。
 

备注：CNM生产的真空镀膜材料均通过SGS认证，纯度高，溅点少，放气量小，薄膜均匀，附着力强，抗腐蚀性强，颜色均匀等优点。

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广泛适用于真空镀膜行业、靶材原料、航空航天工业、船舶汽车工业，国防工业、电器工业、仪表工业、科研实验、原子能工业等